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来源：新浪证券 - 红岸工作室6 月 17 日消息，国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为 " 一种金属钛层的沉积工艺 " 的专利。申请公布号为 CN122214841A，申请号为 CN202510559967.1，申请公布日期为 2026 年 6 月 16 日，申请日期为 2025 年 4 月 29 日，发明人沈成绪、许灿，专利代理机构上海元好知识产权代理有限公司，专利代理师贾慧琴、张静洁，分类号 C23C16/505、C23C16/14、C23C16/56、C23C16/52。专利摘要显示，本发明公开了一种金属钛层的沉积工艺，包含：将一基片置于半导体处理设备的反应腔中，所述基片具有若干由侧壁与底部界定的开口；沉积步骤：向所述反应腔中通入钛源前驱体及还原气体，在射频源作用下，所述钛源前驱体与所述还原气体解离，发生化学反应，在所述开口的侧壁与底部沉积金属钛层；刻蚀步骤：关闭所述射频源，向所述反应腔中通入刻蚀气体，所述刻蚀气体与所述金属钛层发生化学反应，使所述金属钛层厚度减薄；N 次循环进行所述沉积步骤、刻蚀步骤，直到所述金属钛层达到设定厚度及设定的台阶覆盖率。本发明通过 N 次循环进行的沉积步骤、刻蚀步骤，可以实现在复杂的三维结构中形成的金属钛层的厚度和台阶覆盖率均能达到工艺要求。天眼查数据显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司成立日期 2004 年 5 月 31 日，法定代表人尹志尧，所属行业为专用设备制造业，企业规模为大型，注册资本 62614.5307 万人民币，实缴资本 62691.781 万人民币，注册地址为上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路 188 号。中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了 30 家企业，参与招投标项目 86 次，财产线索方面有商标信息 114 条，专利信息 1706 条，拥有行政许可 88 个。中微半导体设备（上海）股份有限公司近期专利情况如下：

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华纳公司，作为全球知名的娱乐巨头，自成立以来，始终以其卓越的创意和丰富的内容，赢得了全球观众的喜爱。而要深入了解华纳公司的历史、业务范围以及最新动态，访问其官方网站无疑是最佳选择。今天，就让我们一同走进华纳公司的官方网站，领略其风采。 华纳公司的官方网站（www.warnerbros.com）界面简洁大方，色彩搭配和谐，让人一眼就能感受到其专业与大气。首页上，华纳公司的品牌logo醒目地展示在顶部，下方则是公司的最新动态、热门新闻、电影预告片等精彩内容。 首先，官方网站为我们详细介绍了华纳公司的历史。从1923年创立至今，华纳公司已经走过了近百年的辉煌历程。从最初的电影制作，到如今的全球娱乐产业，华纳公司始终站在行业前沿，不断创造着属于华纳的传奇。 在官方网站的“关于我们”板块，我们可以了解到华纳公司的业务范围。华纳公司旗下拥有多个子公司，包括华纳兄弟影业、华纳音乐、华纳家庭娱乐等。这些子公司在全球范围内拥有广泛的业务布局，涵盖了电影、音乐、游戏、出版等多个领域。 在电影方面，华纳兄弟影业是全球最大的电影制作公司之一，拥有众多脍炙人口的电影作品。官方网站上的“电影”板块，为我们展示了华纳公司最新的电影作品，包括即将上映的影片、经典影片回顾等。此外，观众还可以在这里了解到电影背后的制作故事，以及主创团队的访谈等内容。 音乐方面，华纳音乐是全球最大的音乐公司之一，旗下拥有众多知名歌手和音乐人。官方网站的“音乐”板块，为我们展示了华纳音乐的最新专辑、单曲以及音乐视频。此外，观众还可以在这里了解到音乐人的访谈、演出信息等。 除了电影和音乐，华纳公司还涉足游戏、出版等领域。官方网站的“游戏”和“出版”板块，为我们展示了华纳公司在这些领域的最新动态和作品。无论是游戏爱好者还是图书爱好者，都能在这里找到适合自己的内容。 值得一提的是，华纳公司的官方网站还提供了丰富的互动功能。观众可以通过官方网站参与线上活动、投票、评论等，与华纳公司保持紧密的联系。此外，官方网站还支持多语言访问，方便全球观众了解华纳公司的最新动态。 总之，华纳公司的官方网站是一个全面了解华纳公司、欣赏其作品的绝佳平台。在这里，我们可以了解到华纳公司的历史、业务范围、最新动态，还可以参与到各种互动活动中。无论是电影爱好者、音乐爱好者，还是游戏爱好者，都能在这里找到属于自己的乐趣。 在这个信息爆炸的时代，华纳公司的官方网站无疑为我们提供了一个便捷、全面的了解途径。让我们携手走进华纳公司的官方网站，共同感受这个全球娱乐巨头的魅力吧！

来源：新浪证券 - 红岸工作室6 月 17 日消息，国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为 " 一种金属钛层的沉积工艺 " 的专利。申请公布号为 CN122214841A，申请号为 CN202510559967.1，申请公布日期为 2026 年 6 月 16 日，申请日期为 2025 年 4 月 29 日，发明人沈成绪、许灿，专利代理机构上海元好知识产权代理有限公司，专利代理师贾慧琴、张静洁，分类号 C23C16/505、C23C16/14、C23C16/56、C23C16/52。专利摘要显示，本发明公开了一种金属钛层的沉积工艺，包含：将一基片置于半导体处理设备的反应腔中，所述基片具有若干由侧壁与底部界定的开口；沉积步骤：向所述反应腔中通入钛源前驱体及还原气体，在射频源作用下，所述钛源前驱体与所述还原气体解离，发生化学反应，在所述开口的侧壁与底部沉积金属钛层；刻蚀步骤：关闭所述射频源，向所述反应腔中通入刻蚀气体，所述刻蚀气体与所述金属钛层发生化学反应，使所述金属钛层厚度减薄；N 次循环进行所述沉积步骤、刻蚀步骤，直到所述金属钛层达到设定厚度及设定的台阶覆盖率。本发明通过 N 次循环进行的沉积步骤、刻蚀步骤，可以实现在复杂的三维结构中形成的金属钛层的厚度和台阶覆盖率均能达到工艺要求。天眼查数据显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司成立日期 2004 年 5 月 31 日，法定代表人尹志尧，所属行业为专用设备制造业，企业规模为大型，注册资本 62614.5307 万人民币，实缴资本 62691.781 万人民币，注册地址为上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路 188 号。中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了 30 家企业，参与招投标项目 86 次，财产线索方面有商标信息 114 条，专利信息 1706 条，拥有行政许可 88 个。中微半导体设备（上海）股份有限公司近期专利情况如下：